1个掩模对准器
最近身边的朋友都在如火如荼的谈论光刻机。什么是光刻机？用在什么地方，有什么作用？让让我们看看下面的解释吧！
经常听人说7纳米光刻机和5纳米光刻机，但严格来说，没有7纳米光刻机和5纳米光刻机。我为什么这么说？
首先，我们要搞清楚什么是光刻机。光刻技术是利用光刻机发出的光穿过带有图案的掩模，对涂有光刻胶的薄膜进行曝光。光刻胶见光后，其性质会发生变化，从而可以将掩膜上的图案复制到薄膜上，薄膜可以充当电子电路图。
2平版印刷
简单来说，光刻就是制造芯片制作所需的电路和功能区域，类似于投影仪，但光刻扔的不是照片，而是电路图和其他电子元件。光刻的好坏直接决定了芯片是否可用，而这里最重要的是光源。光刻机的所有核心部件都是围绕光源开发的，所以根据光源的改进，光刻机可以分为五代，即最早的336 nm光刻机、第二代365 nm波长光刻机、第三代248 nm波长EUV光刻机、第四代193 nm波长光刻机和第五代13.5 nm波长光刻机。
3张双人桌
什么是双人工作台？一个工作台曝光晶片，而另一个工作台执行预对准。两个工作台相互独立，同时运行，生产效率可提高35%左右，精度可提高10%以上。
目前，我国已经能够批量生产第四代扫描投影式光刻机。如果使用套印精度在1.9 nm左右的工作台，可以在多次曝光下实现11 nm工艺技术的芯片生产。如果使用套印精度更好的1.7 nm国产华卓精科工作台，在多次曝光下，7 nm工艺技术的芯片生产就更能实现。所以准确的说，7 nm光刻机和5 nm光刻机的说法是不准确的，正确的应该是7 nm工艺和5 nm工艺。因此，唐想不到90 nm到7 nm的距离很远，渐进式光源带来的改变会是革命性的。中国芯片产业的主要问题不在于
前面的道路艰难而漫长。只有坚持，才能创造历史。林恩
